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SPK-500S 寬幅等(deng)離(li)子(zi)清(qing)(qing)洗(xi)機(Plasma cleaner)，氣體(ti)通過激勵電(dian)源離(li)化(hua)成(cheng)等(deng)離(li)子(zi)態，等(deng)離(li)子(zi)體(ti)作用于產品(pin)表面，清(qing)(qing)洗(xi)產品(pin)表面污(wu)染物(wu)，提高表面活性，增強(qiang)附著性能。等(deng)離(li)子(zi)清(qing)(qing)洗(xi)是一(yi)種新型的、環保、高效(xiao)、穩定的表面處(chu)理(li)方式。

半(ban)導體(ti)等(deng)離(li)(li)子(zi)(zi)去膠機通(tong)過對(dui)工藝(yi)氣(qi)體(ti)施(shi)加電場使電離(li)(li)化為等(deng)離(li)(li)子(zi)(zi)體(ti)。等(deng)離(li)(li)子(zi)(zi)體(ti)的“活(huo)(huo)(huo)性(xing)(xing)(xing)”組(zu)(zu)分包括(kuo)：離(li)(li)子(zi)(zi)、電子(zi)(zi)、原子(zi)(zi)、自由活(huo)(huo)(huo)性(xing)(xing)(xing)基團、激發態的核素（亞穩態）、光子(zi)(zi)等(deng)。等(deng)離(li)(li)子(zi)(zi)處理(li)就是通(tong)過利用這些(xie)活(huo)(huo)(huo)性(xing)(xing)(xing)組(zu)(zu)分的性(xing)(xing)(xing)質進行氧化、還原、裂解、交(jiao)聯和聚合等(deng)物理(li)和化學反應(ying)改(gai)變(bian)樣(yang)品表(biao)面(mian)性(xing)(xing)(xing)質，從而優化材料(liao)表(biao)面(mian)性(xing)(xing)(xing)能，實現(xian)清潔、改(gai)性(xing)(xing)(xing)、刻蝕(shi)等(deng)目的。

等(deng)(deng)離(li)(li)子(zi)(zi)除膠機通過對工藝氣體施加電(dian)場使電(dian)離(li)(li)化為等(deng)(deng)離(li)(li)子(zi)(zi)體。等(deng)(deng)離(li)(li)子(zi)(zi)體的(de)(de)“活(huo)性(xing)(xing)”組(zu)分(fen)包括(kuo)：離(li)(li)子(zi)(zi)、電(dian)子(zi)(zi)、原子(zi)(zi)、自由活(huo)性(xing)(xing)基團(tuan)、激(ji)發態的(de)(de)核素（亞穩態）、光子(zi)(zi)等(deng)(deng)。等(deng)(deng)離(li)(li)子(zi)(zi)處理就是通過利用這些活(huo)性(xing)(xing)組(zu)分(fen)的(de)(de)性(xing)(xing)質進行(xing)氧化、還原、裂解、交聯(lian)和聚合等(deng)(deng)物(wu)理和化學反應(ying)改變樣品(pin)表面性(xing)(xing)質，從而優化材料(liao)表面性(xing)(xing)能，實現清潔(jie)、改性(xing)(xing)、刻(ke)蝕等(deng)(deng)目(mu)的(de)(de)。

寬幅(fu)線性(xing)(xing)(xing)等(deng)(deng)(deng)離(li)(li)子(zi)(zi)清洗機通過(guo)(guo)對工藝氣體施加電場使電離(li)(li)化為等(deng)(deng)(deng)離(li)(li)子(zi)(zi)體。等(deng)(deng)(deng)離(li)(li)子(zi)(zi)體的“活性(xing)(xing)(xing)”組分包(bao)括(kuo)：離(li)(li)子(zi)(zi)、電子(zi)(zi)、原子(zi)(zi)、自由活性(xing)(xing)(xing)基團、激(ji)發(fa)態的核素（亞穩態）、光(guang)子(zi)(zi)等(deng)(deng)(deng)。等(deng)(deng)(deng)離(li)(li)子(zi)(zi)處理就是(shi)通過(guo)(guo)利用這(zhe)些活性(xing)(xing)(xing)組分的性(xing)(xing)(xing)質(zhi)進行氧化、還原、裂解、交(jiao)聯和(he)聚(ju)合等(deng)(deng)(deng)物理和(he)化學反應(ying)改變樣品(pin)表(biao)面(mian)性(xing)(xing)(xing)質(zhi)，從而優(you)化材料(liao)表(biao)面(mian)性(xing)(xing)(xing)能，實現清潔、改性(xing)(xing)(xing)、刻蝕等(deng)(deng)(deng)目的。

大氣等(deng)離(li)子(zi)清(qing)洗機(ji)通過對工藝氣體(ti)施加電場使電離(li)化(hua)為等(deng)離(li)子(zi)體(ti)。等(deng)離(li)子(zi)體(ti)的“活性(xing)”組分包括：離(li)子(zi)、電子(zi)、原(yuan)子(zi)、自由(you)活性(xing)基團、激發(fa)態的核(he)素(su)（亞(ya)穩態）、光(guang)子(zi)等(deng)。等(deng)離(li)子(zi)處理(li)就(jiu)是通過利用這些(xie)活性(xing)組分的性(xing)質(zhi)(zhi)進行氧化(hua)、還(huan)原(yuan)、裂(lie)解、交聯和聚合等(deng)物理(li)和化(hua)學反應改(gai)變樣品表面(mian)性(xing)質(zhi)(zhi)，從而優化(hua)材料表面(mian)性(xing)能(neng)，實現清(qing)潔、改(gai)性(xing)、刻(ke)蝕等(deng)目的。

大(da)氣等(deng)離(li)子(zi)(zi)清洗機通過對(dui)工藝氣體施加電(dian)場使電(dian)離(li)化為等(deng)離(li)子(zi)(zi)體。等(deng)離(li)子(zi)(zi)體的“活性(xing)(xing)”組(zu)分包括：離(li)子(zi)(zi)、電(dian)子(zi)(zi)、原子(zi)(zi)、自由(you)活性(xing)(xing)基(ji)團、激發態的核素（亞穩態）、光子(zi)(zi)等(deng)。等(deng)離(li)子(zi)(zi)處理就是通過利用(yong)這些活性(xing)(xing)組(zu)分的性(xing)(xing)質(zhi)進行氧化、還原、裂解、交聯和聚合等(deng)物理和化學反(fan)應改(gai)變樣品表(biao)面性(xing)(xing)質(zhi)，從而優化材料表(biao)面性(xing)(xing)能，實現清潔、改(gai)性(xing)(xing)、刻蝕等(deng)目的。

SPV-60真空等(deng)離(li)(li)子(zi)(zi)(zi)清洗(xi)機通過對工藝氣體(ti)施加電場使電離(li)(li)化(hua)(hua)為等(deng)離(li)(li)子(zi)(zi)(zi)體(ti)。等(deng)離(li)(li)子(zi)(zi)(zi)體(ti)的(de)(de)“活性(xing)(xing)(xing)”組分(fen)包(bao)括：離(li)(li)子(zi)(zi)(zi)、電子(zi)(zi)(zi)、原子(zi)(zi)(zi)、自由(you)活性(xing)(xing)(xing)基團、激發態的(de)(de)核(he)素（亞穩態）、光子(zi)(zi)(zi)等(deng)。等(deng)離(li)(li)子(zi)(zi)(zi)處(chu)理就是通過利用這些活性(xing)(xing)(xing)組分(fen)的(de)(de)性(xing)(xing)(xing)質來氧化(hua)(hua)、還原、裂解、交聯和聚(ju)合等(deng)物理和化(hua)(hua)學反應改變(bian)樣(yang)品(pin)表(biao)面(mian)(mian)性(xing)(xing)(xing)質，從(cong)而優化(hua)(hua)材料(liao)表(biao)面(mian)(mian)性(xing)(xing)(xing)能，實(shi)現清潔(jie)、改性(xing)(xing)(xing)、刻蝕等(deng)目(mu)的(de)(de)。